摘要:涂胶显影设备(Track)是光刻工序中与光刻机配套使用的涂胶、显影及烘烤设备。近几年,国内涂胶显影设备生产企业在技术上取得进展,成功在下游客户端占据一席之地,涂胶显影设备产值快速增长,2024年我国涂胶显影设备行业产值增长到18.26亿元。作为光刻机的“重要搭档”,涂胶显影设备广泛应用于集成电路、OLED、LED、化合物半导体&功率器件等先进制造领域。2024年我国涂胶显影设备市场需求量增长到1775台套,市场规模增长到125.9亿元。随着下游电子、汽车、通信等行业需求的稳步增长,以及人工智能、云计算及大数据等新兴领域的快速发展,集成电路产业面临着新型芯片带来的产能扩张需求,为涂胶显影设备行业带来广阔的市场空间。
一、定义及分类
涂胶显影设备(Track)是光刻工序中与光刻机配套使用的涂胶、显影及烘烤设备,包括涂胶机(又称涂布机、匀胶机)、喷胶机(适用于不规则表面晶圆的光刻胶涂覆)和显影机。按设备类型可以分为涂胶机、喷胶机、显影机;按应用环节可以分为前道设备、后道设备;按技术节点可以分为KrF及以下节点类、ArF类、其他先进节点类。
二、行业政策
1、主管部门及监管体制
涂胶显影设备行业的政府主管部门为工信部和科技部,行业自律性组织为中国半导体行业协会和中国电子专用设备工业协会。工信部、科技部和行业协会构成了半导体设备行业的管理体系,各企业在主管部门产业宏观调控、行业协会自律规范的约束下,面向市场自主经营,自主承担市场风险。
2、相关政策
(1)国家层面相关政策
为推动半导体及相关产业发展,增强产业创新能力和国际竞争力,带动传统产业改造和产品升级换代,进一步促进国民经济持续、快速、健康发展,我国政府先后出台《电子信息制造业2023—2024年稳增长行动方案》《关于推动技能强企工作的指导意见》等鼓励和支持半导体设备产业发展的政策,为我国涂胶显影设备行业发展营造了良好的政策环境。
(2)地方层面相关政策
为了响应国家号召,各省市积极推动涂胶显影等半导体设备行业的发展,如2024年2月陕西省发布的《关于支持企业开拓国际市场的实施意见》提出加强对半导体产业龙头企业跟踪帮扶,实施好太阳能光伏产业国家外经贸提质增效示范项目,支持出口支柱产业企稳回升。
三、行业壁垒
涂胶显影是半导体器件生产过程中不可或缺的一项关键工艺,是半导体产业链的上游核心环节。作为半导体制造(前道)和先进封装(后道)的核心设备之一,光刻涂胶显影机涉及电子、机械、化工、材料、信息等学科领域,属于典型的高、精、尖高端装备,行业具有较高的技术壁垒、资金壁垒和客户壁垒,在一定程度上限制了新企业进入该市场。
四、产业链
1、行业产业链分析
涂胶显影设备行业是半导体产业链中的一个重要环节,其上下游产业的发展状况对涂胶显影设备行业具有重要影响。涂胶显影设备行业产业链上游包括传感器、有色金属、电子元件、过滤器、仪器仪表等原材料和零部件,这些原材料和零部件的质量和供应稳定性直接影响到涂胶显影设备的性能和可靠性。行业中游为涂胶显影设备生产制造,以美国应用材料、荷兰阿斯麦、美国泛林集团、日本东京电子、美国科天等为代表的国际知名企业占据了全球半导体设备市场的主要份额。行业下游主要应用于半导体领域,既用于半导体晶圆制造(光刻环节),也用于半导体封测(涂胶、显影环节)、OLED制造(光刻环节)。半导体厂商是涂胶显影设备的主要用户,其生产需求和技术要求直接决定了涂胶显影设备的市场规模和技术发展方向。


























2、行业领先企业分析
芯源微主要从事半导体专用设备的研发、生产和销售,产品主要包括光刻工序涂胶显影设备、单片式湿法设备。芯源微是国内涂胶显影、单片式湿法设备龙头企业,近年来持续加大研发投入,推出了前道单片式化学清洗设备、临时键合解键合设备、SiC划裂片设备等多款新产品,目前芯源微电子已成功推出offline、I-line、KrF及ArF浸没式等多种型号涂胶显影设备,已形成了前道涂胶显影设备、前道清洗设备、后道先进封装设备、化合物等小尺寸设备四大业务板块,产品已完整覆盖前道晶圆加工、后道先进封装、化合物半导体等多个领域。据企业公告数据显示,2023年,芯源微半导体设备实现业务收入16.79亿元,毛利率41.84%;2024年上半年,芯源微半导体设备实现业务收入6.72亿元,毛利率39.38%。
五、行业现状
近几年,国内涂胶显影设备生产企业在技术上取得进展,成功在下游客户端占据一席之地,涂胶显影设备产值快速增长,2024年我国涂胶显影设备行业产值增长到18.26亿元。作为光刻机的“重要搭档”,涂胶显影设备广泛应用于集成电路、OLED、LED、化合物半导体&功率器件等先进制造领域。2024年我国涂胶显影设备市场需求量增长到1775台套,市场规模增长到125.9亿元。随着下游电子、汽车、通信等行业需求的稳步增长,以及人工智能、云计算及大数据等新兴领域的快速发展,集成电路产业面临着新型芯片带来的产能扩张需求,为涂胶显影设备行业带来广阔的市场空间。
六、发展因素
1、有利因素
涂胶显影设备是半导体制造(前道)和先进封装(后道)的关键设备,行业发展受市场需求、半导体产业扩张、国产替代、政策支持等多重因素的影响。
2、不利因素
涂胶显影设备行业虽然受益于半导体产业扩张和国产替代趋势,但也面临融资环境不成熟、高端技术人才相对缺乏、产业环境有待进一步改善、国外出口限制等因素的影响。
七、竞争格局
中国涂胶显影设备厂商起步相对较晚,技术积累不足,涂胶显影设备行业长期被国际企业垄断,以东京电子为代表的国际企业凭借其成熟的技术、丰富的产品线和广泛的客户资源,占据了国内85%以上的市场份额,而国产厂商的市场占比仅为14.24%。在国产替代政策的推动以及下游晶圆厂扩产需求的刺激下,国内企业如芯源微等,通过多年的研发和积累,已掌握了相关核心技术,拥有自主知识产权,具备一定品牌知名度,逐步在市场中崭露头角,奠定了一定的市场地位。但仍远落后于美国、日本等制造强国。
八、发展趋势
涂胶显影设备作为半导体制造工艺中的关键设备,其市场需求随着半导体产业的蓬勃发展而持续增长。随着国内涂胶显影设备行业技术不断进步,各类技术等级设备并存发展,涂胶显影设备产品质量和市场份额方面取得了显著进展,国产替代步伐的加快,国内企业有望打破国外厂商的垄断地位,市场份额的逐步扩大。半导体技术的不断进步,半导体器件集成度不断提高,促使涂胶显影设备行业向高精度化与高集成化方向发展。
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作为光刻机的“重要搭档”,涂胶显影设备应用领域广阔,现已广泛应用于集成电路等先进制造领域,市场空间广阔。2024年我国涂胶显影设备市场需求量从2017年的371台套增长到1775台套,市场规模从2017年的20.05亿元增长到125.9亿元;预计2025年我国涂胶显影设备市场需求量将达到2025台套,市场规模将达到143.74亿元。