半导体光刻胶

2025年中国半导体光刻胶‌行业政策、产业链图谱、发展现状、企业布局及未来发展趋势研判：国产替代加速，光刻胶百亿空间开启[图]

半导体光刻胶，又称光致抗蚀剂，是一种通过紫外光、电子束、离子束、X射线等照射或辐射后，其溶解度发生变化的耐蚀刻薄膜材料。作为光刻工艺的核心耗材，光刻胶在半导体制造中扮演着将掩模版上的电路图形精准复制到晶圆表面的关键角色。其性能直接影响芯片的分辨率、良率和制造成本，是半导体产业链中技术壁垒最高的环节之一。