2025年中国半导体湿法设备行业市场规模、产业链结构、竞争格局、代表企业经营现状分析及未来发展趋势研判：国产替代加速、市场份额逐步扩大[图]

内容概要：半导体湿法设备是芯片制造中用于清洗、蚀刻、去胶等一系列工艺的核心装备，它是通过使用化学溶液与半导体材料进行反应来实现特定的工艺目的。全球主流芯片的制造分为4个阶段：原料制作、单晶生长和晶圆的制造、集成电路晶圆的生产、集成电路的封装。在目前主流的芯片制程中，湿法清洗是主流的清洗技术路线，占芯片制造清洗步骤数量的90%以上。近年来，随着全球半导体行业的快速发展，半导体湿法设备市场也呈现出强劲的增长势头。据统计，2024年，全球半导体清洗设备市场规模约为794.07亿元，较2023年增加82.35亿元；中国半导体清洗设备市场规模为158.82亿元，较2023年增加30.71亿元。预计2025年全球半导体清洗设备市场规模有望达到880亿元，中国半导体清洗设备市场规模有望达到195亿元。

上市企业：至纯科技[603690]、北方华创[002371]、盛美上海[688082]、芯源微[688037]

相关企业：迪恩士SCREEN、东京电子TEL、泛林LAM与细美事SEMES、Lam Research、中芯国际、长江存储、华虹集团、富乐德、江化微、上海新阳、芯矽科技、重庆华润、上海华虹、上海积塔、上海格科、广东粤芯、、青岛芯恩、厦门士兰、南通捷捷、湖南楚微等

关键词：半导体湿法设备市场规模、半导体湿法设备市场竞争格局、半导体湿法设备市场代表企业经营现状、半导体湿法设备行业发展趋势

一、半导体湿法设备行业定义及分类

半导体湿法设备是芯片制造中用于清洗、蚀刻、去胶等一系列工艺的核心装备，它是通过使用化学溶液与半导体材料进行反应来实现特定的工艺目的。半导体湿法设备主要包括湿法清洗刷洗设备、湿法刻蚀设备及去胶设备三类。其根据使用场景的不同，湿法清洗技术路线又被细分成单片清洗设备、槽式清洗设备、批式旋转喷淋清洗设备和洗刷器等类别，其中单片和槽式清洗设备是目前主流的清洗设备。

二、半导体湿法设备行业发展现状

目前，全球主流芯片的制造，分为4个阶段：原料制作、单晶生长和晶圆的制造、集成电路晶圆的生产、集成电路的封装。在目前主流的芯片制程中，湿法清洗是主流的清洗技术路线，占芯片制造清洗步骤数量的90%以上。据统计，2024年全球半导体清洗设备市场规模约为794.07亿元，较2023年增加82.35亿元；预计2025年有望达到880亿元。

近年来，随着国内半导体行业的快速发展，我国半导体清洗设备市场也呈现出强劲的增长势头。2024年中国半导体清洗设备市场规模为158.82亿元，较2023年增加30.71亿元；预计2025年中国半导体清洗设备市场规模有望达到195亿元。

相关报告：智研咨询发布的《中国半导体湿法设备行业市场全景调研及发展前景研判报告》

三、半导体湿法设备行业产业链

1、半导体湿法设备行业产业链结构

半导体湿法设备是用于半导体制造过程中的一系列设备。半导体湿法设备行业产业链上游主要包括高纯度化学品（硫酸、氢氟酸、氨水）、超纯水系统（超纯水系统）等核心材料，以及精密机械部件（耐腐蚀泵、阀门）、传感器与控制系统（温度/压力传感器、PLC控制器）、纳米级过滤器等关键零部件，上游的材料与零部件技术壁垒较高，主要由欧美日厂商占据主要份额；行业中游为半导体湿法设备生产制造；行业下游应用于半导体的制造中，终端应用于消费电子、汽车电子、AI/数据中心等领域。

2、半导体湿法设备行业产业链上游-湿电子化学品

湿电子化学品又称超净高纯试剂，是半导体产业中不可或缺的高纯度化学品。根据用途，湿电子化学品主要可分为通用化学品和功能性化学品。主要包含酸类、碱类、氧化剂、有机溶剂类和蚀刻液、电镀液及其添加剂、清洗剂、显影液和剥离液等产品，是超大规模集成电路、新型显示、太阳能电池等制造工艺过程中不可缺少的关键基础化工材料，主要应用于清洗、刻蚀、电镀和表面处理等环节。

在5G通讯、智能终端、汽车电子等新兴领域的带动下，全球集成电路、显示面板等产业持续保持稳健发展，相关配套行业也迎来持续增长。2023年全球湿电子化学品整体市场规模约684.02亿元，其中，集成电路领域市场规模462.00亿元，显示面板领域市场规模134.60亿元，太阳能光伏领域市场规模87.42亿元；预计到2025年，全球湿电子化学品整体市场规模将达到827.85亿元，其中，集成电路领域市场规模约544.60亿元，显示面板领域市场规模约159.00亿元，太阳能光伏领域市场规模约124.25亿元。随着半导体行业的发展，预计湿电子化学品在三大应用领域湿电子化学品市场规模均保持持续增长。

3、半导体湿法设备行业产业链下游-芯片

在芯片制造过程中，湿法设备扮演着至关重要的角色。湿法设备在半导体制造中不可或缺，从清洗到刻蚀，再到平坦化，它们确保了芯片的高性能和高可靠性。随着技术的不断进步，湿法设备的应用范围和效率将进一步提升，推动芯产业的持续发展。2023年我国芯片产量3514亿块，2024年我国芯片产量4514.2亿块。

四、半导体湿法设备行业竞争格局

1、主要企业

目前，全球半导体湿法设备高度集中，市场主要被迪恩士SCREEN、东京电子TEL、泛林LAM与细美事SEMES等日本、美国、韩国等国外企业主导，这四家企业合计占据全球超90%的市场份额。国内能够提供半导体湿法设备的企业主要包括至纯科技、北方华创、盛美上海及芯源微。国产设备市场占有率低，但发展迅速。国内企业如盛美上海、至纯科技、北方华创的成果比肩国际领先企业。盛美半导体、北方华创、至纯科技、芯源微等企业已实现部分湿法设备量产，并进入中芯国际、长江存储、华虹集团等国内头部晶圆厂供应链。

2、代表企业

1）盛美半导体设备（上海）股份有限公司

盛美上海专注于对先进集成电路制造、先进晶圆级封装制造及大硅片制造领域半导体设备研发、生产和销售，通过向半导体芯片制造商提供高性能、低消耗的工艺解决方案，致力于提升客户的生产效率和产品良率。盛美（上海）半导体湿法设备主要产品具体如下：

得益于中国半导体设备市场需求增长、盛美上海在清洗设备领域竞争优势的提升以及不断开拓新的半导体设备产品，销售收入持续增长，保持持续盈利。据企业公告数据显示，2024年盛美上海实现营业收入56.18亿元，同比增长44.48%；归属于上市公司股东的净利润11.53亿元，同比增长26.65%。受益于半导体行业景气以及公司产品结构多元化的发展策略，2024年盛美上海半导体清洗设备收入为40.57亿元，同比增长约55.18%；先进封装湿法设备收入为2.46亿元，同比增长约53.55%。

2）上海至纯洁净系统科技股份有限公司

经过多年的努力，至纯科技已成为国内集成电路领域高纯工艺系统的领导者、湿法设备的领先者，并成功跻身为国内28纳米及以上主流集成电路制造企业的大宗气体主要本土供应商之一。在技术研发方面，至纯科技湿法设备产品成功开发了四大平台，覆盖湿法几乎全部工艺，在仍然被国际厂商垄断的部分机台环节，至纯科技保持了国内领先的验证及交付进度。至纯科技旗下至微科技是国内湿法设备主要供应商之一，能够覆盖晶圆制造中包括逻辑电路、高密度存储、化合物半导体特色工艺等多个细分领域的市场需求。据企业公告数据显示，2024年前三季度，至纯科技实现营业总收入26.39亿元，同比上升20.04%；归母净利润1.93亿元，同比下降1.64%。

六、半导体湿法设备行业发展趋势

未来，随着国内晶圆产能扩张（如中芯京城、长存二期）和技术迭代，中国半导体湿法设备企业有望在全球半导体产业链中扮演更重要的角色。未来，随着国内企业技术的不断创新，国产替代加速，设备将更高洁净度与集成化，智能化升级，国际市场份额逐步扩大。

以上数据及信息可参考智研咨询（www.chyxx.com）发布的《中国半导体湿法设备行业市场全景调研及发展前景研判报告》。智研咨询是中国领先产业咨询机构，提供深度产业研究报告、商业计划书、可行性研究报告及定制服务等一站式产业咨询服务。您可以关注【智研咨询】公众号，每天及时掌握更多行业动态。