2026-2032年中国铜靶材行业市场运行格局及发展前景研判报告

报告导读：

铜靶材（Copper Target）是真空镀膜行业溅射靶材的一种，由高纯度铜材料经加工制成特定尺寸和形状，适配磁控溅射、射频溅射等工艺，用于镀制半导体薄膜、导电膜等功能膜层。根据形状，铜靶材主要分为平面铜靶材、旋转铜靶材和异形铜靶材。溅射靶材根据材质可分为金属靶材、合金靶材和陶瓷化合物靶材，其中，金属靶材包括铜靶材、铝靶材、铬靶材、镍靶材、钛靶材、钽靶材等。铜靶材作为溅射镀膜工艺中的关键材料，在半导体制造、平板显示以及太阳能光伏等行业中具有广泛应用。铜靶材在薄膜制备技术中展现出重要的应用价值与发展潜力，通过对制备流程的优化、性能特点的精准控制以及生产环节的严格管理，能够制备出高品质的铜靶材，从而满足不同下游领域的差异化需求。随着半导体技术的持续进步与市场规模的稳步扩大，市场对高性能靶材的需求日益增强，铜靶材作为半导体制造中的核心材料之一，其市场需求保持稳定增长。数据显示，2019-2024年中国铜靶材行业市场规模从12.07亿元增长至25.15亿元，年复合增长率为15.81%。未来，随着半导体产业向更先进制程演进、显示技术向高分辨率与柔性化发展以及光伏电池效率持续提升，铜靶材将在高纯度、大尺寸、低缺陷率等方面面临更高要求，推动行业向精细化、高端化方向持续升级。中国铜靶材行业竞争格局呈现出外资企业主导与国内企业快速追赶并存的态势。以JX日矿金属、霍尼韦尔、日本爱发科、东曹株式会社等为代表的国际领先企业，凭借其深厚的技术积累、成熟的全球供应链体系以及长期积累的品牌声誉，在高端半导体及显示面板用铜靶材市场占据主导地位。与此同时，以江丰电子、阿石创、欧莱新材、丰联科光电等为代表的本土企业，正通过持续的技术研发投入、积极的产能扩张以及不断提升的产品性价比，在中高端应用领域加速国产化替代进程，逐步提升市场份额。整体市场虽仍由外资企业掌握话语权，但国内企业凭借政策支持与本土化服务优势，正逐步打破垄断，形成内外资企业竞合共生的多元竞争格局。

基于此，依托智研咨询旗下铜靶材行业研究团队深厚的市场洞察力，并结合多年调研数据与一线实战需求，智研咨询推出《2026-2032年中国铜靶材行业市场运行格局及发展前景研判报告》。本报告立足铜靶材新视角，聚焦行业核心议题——变化趋势（怎么变）、用户需求（要什么）、投放选择（投向哪）、运营方法（如何投）及实践案例（看一看），期待携手行业伙伴，共谋行业发展新格局、新机遇，推动铜靶材行业发展。

观点抢先知：

相关概述：铜靶材（Copper Target）是真空镀膜行业溅射靶材的一种，由高纯度铜材料经加工制成特定尺寸和形状，适配磁控溅射、射频溅射等工艺，用于镀制半导体薄膜、导电膜等功能膜层。根据形状，铜靶材主要分为平面铜靶材、旋转铜靶材和异形铜靶材。

特点：铜靶材的特点主要包括：（1）高纯度：高纯度的铜靶材可以制备出低电阻的导电膜，满足高性能电子器件的需求；（2）良好的导电性：铜的电子结构相对简单，易形成自由电子，从而具备优良的导电性能。这使得铜靶材在导电膜的制备中占据重要地位；（3）高热导率：铜具有较高的热导率，有利于在溅射过程中将热量迅速传导出去，保持靶材表面的温度稳定；（4）良好的可加工性：铜靶材易于进行机械加工和表面处理，可以制备出各种形状和尺寸的靶材。

制备方法：铜靶材的制备方法可分为熔炼铸造法、粉末冶金法和沉积法。熔炼铸造法首先将高纯度铜在真空或惰性气体保护的环境下进行熔炼，使铜充分熔融并混合均匀，然后将熔融态的铜倒入特定的模具中进行铸造，冷却后形成铜靶材坯料。粉末冶金法先将铜制成超细粉末，经过筛分、混合等处理后，在高温高压下进行烧结，使粉末颗粒结合形成致密的铜靶材。粉末冶金法主要有热等静压法、热压法、冷压-烧结法三种方法，通过将各种原料粉混合再烧结成形的方式得到铜靶材。铜靶材是由高纯度铜制成的材料，通常用于物理气相沉积（PVD）技术。PVD是一种通过物理方法（如蒸发或溅射）在材料表面形成薄膜的技术。在这个过程中，铜靶材被放置在真空室内，通过高能粒子束（如电子束或离子束）轰击铜靶表面，使其原子或分子被溅射出来，并沉积在基材上形成薄膜。

行业政策：铜靶材凭借其优异的物理与化学性能，在半导体制造、光伏产业及显示技术等关键领域中发挥着不可替代的核心作用。近年来，国家及地方政府高度重视铜靶材行业的战略价值，已陆续出台一系列针对性政策，旨在推动技术创新、保障产业链安全，并促进产业向高端化、自主化方向发展。例如，2024年12月，工业和信息化部等四部门印发《标准提升引领原材料工业优化升级行动方案（2025—2027年）》，重点开展超高纯金属及合金靶材/蒸发料、形状记忆合金、高端聚烯烃、电子气体分离膜材料、电池膜材料、光学膜材料、光伏用膜材料、生物基新材料、特种涂料、特种胶黏剂、新型催化剂、高端试剂、稀土储氢材料、稀土磁性材料、稀土光功能材料、反光釉料、新能源复合金属材料、新能源电池材料等关键战略材料标准制修订。2025年3月，河南省工业和信息化厅等四部门印发《河南省重点新材料首批次应用示范指导目录（2025版）》，高纯度铜靶材（铜靶胚料）性能要求：（1）Cu≥4N（99.99%）；（2）密度≥8.942/cm²；（3）晶粒尺寸≤50um；（4）硬度≤70HV；（5）总杂质含量＜100ppm；（6）氧含量≤10ppm；（7）电导率≥101%；（8）平整度≤0.5mm/m。

产业链核心节点：铜靶材产业链上游为原材料和设备，其中，原材料包括高纯度铜金属、提纯设备、高精度熔炼炉、先进粉末冶金设备、铸造成型设备等。产业链中游为铜靶材的生产制造环节。产业链下游为应用领域，主要应用于半导体、平板显示、新能源锂电、通信、超导、航天等领域。

市场规模：溅射靶材根据材质可分为金属靶材、合金靶材和陶瓷化合物靶材，其中，金属靶材包括铜靶材、铝靶材、铬靶材、镍靶材、钛靶材、钽靶材等。铜靶材作为溅射镀膜工艺中的关键材料，在半导体制造、平板显示以及太阳能光伏等行业中具有广泛应用。铜靶材在薄膜制备技术中展现出重要的应用价值与发展潜力，通过对制备流程的优化、性能特点的精准控制以及生产环节的严格管理，能够制备出高品质的铜靶材，从而满足不同下游领域的差异化需求。随着半导体技术的持续进步与市场规模的稳步扩大，市场对高性能靶材的需求日益增强，铜靶材作为半导体制造中的核心材料之一，其市场需求保持稳定增长。数据显示，2019-2024年中国铜靶材行业市场规模从12.07亿元增长至25.15亿元，年复合增长率为15.81%。未来，随着半导体产业向更先进制程演进、显示技术向高分辨率与柔性化发展以及光伏电池效率持续提升，铜靶材将在高纯度、大尺寸、低缺陷率等方面面临更高要求，推动行业向精细化、高端化方向持续升级。

企业格局：中国铜靶材行业竞争格局呈现出外资企业主导与国内企业快速追赶并存的态势。以JX日矿金属、霍尼韦尔、日本爱发科、东曹株式会社等为代表的国际领先企业，凭借其深厚的技术积累、成熟的全球供应链体系以及长期积累的品牌声誉，在高端半导体及显示面板用铜靶材市场占据主导地位。与此同时，以江丰电子、阿石创、欧莱新材、丰联科光电等为代表的本土企业，正通过持续的技术研发投入、积极的产能扩张以及不断提升的产品性价比，在中高端应用领域加速国产化替代进程，逐步提升市场份额。整体市场虽仍由外资企业掌握话语权，但国内企业凭借政策支持与本土化服务优势，正逐步打破垄断，形成内外资企业竞合共生的多元竞争格局。

市场趋势：（1）铜靶材技术正持续向超高纯度与功能复合化方向深度发展。为满足半导体先进制程对溅射薄膜均一性、低缺陷率的严苛要求，铜靶材纯度需从当前主流的6N（99.9999%）向6N5乃至更高等级突破，这对原料提纯工艺与全过程洁净度控制提出系统性挑战；（2）随着半导体器件三维化与显示面板大尺寸化发展，铜靶材产品形态正加速向大尺寸、高密度及异形结构演进；（3）在可持续发展理念驱动下，铜靶材生产的绿色化与资源循环利用成为行业必然趋势。

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