光刻机
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光刻机行业深度研究报告：核心“卡脖子”设备 国产替代蓄势待发
光刻机是半导体制造过程中价值量和技术壁垒最高的设备之一。全球光刻机市场规模超230 亿美元，ASML 处于绝对领先，国内市场规模超200 亿元，但是国产化率仅2.5%。目前半导体制造工艺节点缩小至5nm 及以下，曝光波长逐渐缩短至13.5nm，光刻技术逐步完善成熟，但是国内光刻机仍明显落后ASML。
财经研究
2023-10-23
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