光刻胶，又称为光致抗蚀剂，是利用光化学反应经曝光、显影、刻蚀等工艺将所需要的微细图形从掩模版（mask）转移到待加工基片上的图形转移介质，通过曝光其溶解度发生变化的耐蚀刻薄膜材料。 紫外固化光刻胶为半导体电子化学品关键在原材料，也是一种重要的电子化学品。
紫外光刻胶的分类
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紫外光刻胶在 PCB 电路的应用
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全球光刻胶市场规模稳步增长。2014 年，全球光刻胶市场规模已达到 70.2 亿美元，2009-2014 年年均复合增速为 5.20%，市场规模稳步增长。同一时期，我国光刻胶市场规模也在持续扩大，2015 年我国光刻胶市场规模近 100 亿。 按照应用领域，光刻胶可分为 PCB 、LCD 及集成电路光刻胶。
全球光刻胶市场规模
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光刻胶分类及用途
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相关报告：智研咨询发布的《2017-2022年中国光刻胶行业市场竞争现状及投资风险预测报告》
智研咨询 - 精品报告
2024-2030年中国光刻胶行业市场深度分析及未来趋势预测报告
《2024-2030年中国光刻胶行业市场深度分析及未来趋势预测报告》共十三章，包含2024-2030年光刻胶行业投资风险预警，2024-2030年光刻胶行业发展趋势分析，光刻胶企业管理策略建议等内容。
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