2016年中国光刻胶产业供需规模现状及市场增速前景分析预测（图）

    我国对光刻胶及专用化学品的研究起步较晚，国家非常重视，从“六五计划”至今都一直将光刻胶列为国家高新技术计划、国家重大科技项目。尽管取得了一定成果，并有苏州瑞红电子化学品有限公司和北京科华微电子有限公司实现了部分品种半导体光刻胶的国产化，但技术水平仍与国际水平相差较大，作为原料的主要专用化学品仍然需要依赖进口。

    智研咨询发布的《2016-2022年中国光刻胶行业市场深度调研及投资前景分析报告》显示，2014年我国光刻胶行业产量约8.68万吨，同比2013年的7.55万吨增长了14.97%，2015年我国光刻胶行业产量达到了9.75万吨。近几年我国光刻胶行业产量情况如下图所示：

2009-2015年中国光刻胶行业产量情况

资料来源：智研咨询

    行业壁垒高筑，外企寡头长期垄断，随着下游向国内转移，进口替代需求强烈：受益于消费电子、LCD及半导体产业产能向大陆转移，光刻胶化学品进口替代空间大。

    光刻胶及光刻胶用品因技术含量高导致行业竞争者少，目前主要由日本、欧美、台湾等少数公司垄断，仅有少数大陆企业近年来实现技术突破进入下游的供应体系中。随着下游产能逐渐转移至中国大陆，受益于这种大趋势，中国市场的光刻胶需求将稳步提升，实现进口替代需求迫切。

    2015年我国光刻胶行业消费量约10.12万吨，同比2014年的9.13万吨增长了10.84%，近几年我国光刻胶行业市场销量情况如下图所示：

2007-2015年中国光刻胶行业市场需求情况

资料来源：智研咨询

    2015年我国光刻胶行业进口约1.09万吨，出口约0.72万吨。近几年我国光刻胶行业进出口情况如下图所示：

2007-2015年中国光刻胶行业进出口情况

资料来源：智研咨询

    2015年我国光刻胶行业消费量达到10.12万吨，行业销售市场规模约51.7亿元，近几年我国光刻胶行业市场规模情况如下图所示：

2007-2015年中国光刻胶行业市场规模情况

资料来源：智研咨询

    光刻胶是光刻工艺的核心材料，主要应用于PCB、LCD及半导体行业：光刻胶是由感光树脂、增感剂和溶剂三种主要成分组成的对光敏感的混合液体，是利用光化学反应经曝光、显影、刻蚀等工艺将所需要的微细图形从掩模版转移到待加工基片上的图形转移介质，通过曝光其溶解度发生变化的耐蚀刻薄膜材料。作为光刻工艺的关键原材料，光刻胶广泛被应用于PCB、LCD和半导体集成电路的生产加工过程中。

    光刻胶主要用于PCB、LCD、半导体等领域的微细图形加工。2015年我国光刻胶行业消费量细分市场如下图所示：

2015年中国光刻胶行业细分市场消费结构

资料来源：智研咨询

    近几年我国光刻胶市场需求量呈现逐年上升的趋势。2015年我国光刻胶行业需求量达到10.12万吨，预计到2022年我国光刻胶行业需求量将达到27.22万吨。

2016-2022年中国光刻胶行业市场需求预测

资料来源：智研咨询