2016年中国光刻胶市场现状分析及行业需求预测【图】

光刻胶 2016-09-10 05:38

光刻胶只占半导体制造前工序材料整个市场价值约4%，但它是代表整个半导体产业发展水平的关键核心材料，具有指标性功能。从2011 到2015 年，中国市场需求以每年以15%的复合增长率快速增长着。鉴于中国大力扶持半导体产业国产化，上马数条12 寸晶圆厂，6 寸8寸晶圆厂更是数不胜数，对光刻胶市场需求是越来越大。然而中国半导体光刻胶目前只能提供低端的半导体光刻胶如磺化橡胶光刻胶，g/i 线光刻胶，尽管半导体光刻胶市场规模很大，中国却很难从中分一杯羹，而比较高档的如248nm 光刻胶和193nm 光刻胶，中国提供数量就直线下降。

2011-2016年中国光刻胶市场需求情况

中国半导体光刻胶市场销售情况

品名称	市场用量（吨）	市场销售额（亿元）
紫外负性光刻胶（环化橡胶）	150	0.42
紫外正性光刻胶（G线）	120	0.63
紫外正性光刻胶（I线）	280	2.12
深紫外光刻胶（KrF248nm）	160	5.10
深紫外光科技（ArF193nm）	20	2.35

光刻胶行业的成长伴随着半导体产业的发展。因此供应光刻胶的生产企业，大部分都是在半导体产业发展早期就开始参与市场的有机感光材料企业。而这些企业又主要集中在美国、日本、欧洲，以及韩国等。主要生产企业有：日本 TOK、日本 JSR、富士胶片、信越化学和住友化学；美国的 shipley 公司、陶氏化学；欧洲的 Clariant 公司、AZEM 等；，韩国的锦湖石化、东进世麦肯等。其中市场份额位居前列的公司为日本 TOK、美国 shipley、瑞士的Clariant 以及日本的 JSR 公司。这些企业主要供应半导体产业用光刻胶。

本文采编：CY306